流体解决方案

我们通过协作方式提供定制化工程解决方案，满足客户的产品需求，并降低总拥有成本。

通过在设备中集成工业物联网（IIoT）功能，我们帮助客户获得工业 4.0 带来的效益。

流量控制始终是实现半导体器件高良率的关键。先进器件引入的新工艺步骤，为高可靠性、高纯度流体输送带来了新的挑战。为支持先进沉积和刻蚀工艺，行业正在不断引入新型化学品，包括多种液态和固态前驱体。此外，原子层沉积、极紫外光刻等工艺进一步拓展了要求范围，包括快速气体切换和高压控制。

凭借数十年支持半导体生产的经验，我们丰富的 Ham-Let 产品组合持续扩展，适应行业变化。我们能够有效控制流路中多个部件的冷凝问题，并持续开发与行业所用腐蚀性化学品相兼容的部件。无论应用需要高水平的流量调节与校准、每个制造周期中精确的前驱体用量，还是高温条件下可重复的性能表现，我们的产品都能满足严格要求。

在社会迈向碳中和的过程中，满足全球能源需求仍然至关重要。油气生产和输配仍将是这一转型的一部分。石油和天然气、液化天然气及核工业要求供应链各环节严格遵守法规。仪表与控制解决方案既要满足部件的功能要求，也要适应远程监测和控制的实际运行条件。

凭借广泛的产品组合，我们为能源行业提供关键阀门、仪表及控制解决方案，并配备经验丰富的工程团队，协助满足客户需求。

随着全球采用可持续能源解决方案，氢能正成为向更绿色未来转型过程中具有前景的替代燃料。

CKL Fluid Solutions 团队拥有为氢能应用提供专用解决方案所需的技术知识和资源。从氢气储存、运输到燃料电池及更多应用，我们致力于支持这一前景广阔的领域。

流程工业的成功建立在高可靠性、高效率生产的基础上。物料分配系统中的流量监测与控制部件，对于减少计划性维护频次、最大限度提高整体正常运行时间和可用性至关重要。

除生产效率外，工业活动产生的排放还会影响环境和社区，也会给必须开展监测并证明合规的企业带来成本。排放物追踪系统重点监测排放出口，包括处理设施和其他洗涤处理环节，因此这些来源的排放可以被掌握。

然而，生产设施中气体和蒸气的逸散性排放（即泄漏），要求物料输送与分配系统在设计时选用适当部件，尽量降低此类非计划性排放的风险，避免由此产生的高昂成本。

控制阀是逸散性排放的主要来源之一，在我们客户的运营中，其贡献比例可高达 60%。通过严格的材料选择和制造工艺，CKL Fluid Solutions 的 Ham-Let 阀门、连接件和软管解决方案可防止逸散性排放。

工业过程阀广泛应用于各类仪表管路和工艺管线。压力、温度、流量、湿度，以及位置或状态指示，需要通过多个传感器和仪表测量。这些仪表在集成到工艺管线后，每一个都可能成为泄漏源。此外，其中大多数仪表尚不能适配工业 4.0 应用并实现其效益。

对各类过程进行在线监测、控制和管理，可支持对安全事件作出即时响应，促进机器学习应用，并优化机械设备和制造过程。过程阀是系统流量控制的关键部件，也是实现这一级别控制的直接切入点。

为此，工业物联网阀门成为我们重点推进的创新领域之一。我们的内部孵化团队已凭借 IoTH800 智能阀门获得多项奖项。

为满足全球所服务行业的严格可追溯性要求，我们建立了广泛的认证体系。请查看我们的认证清单。

我们可按要求提供原材料测试证书、产品测试报告和质量认证。我们的 CKL Fluid Solution HAM-LET 产品可完整追溯至原材料炉号（Heat Code），并可提供可追溯性证书。请使用可追溯性证书申请表（COT REQUESTS FORM）提交申请。